RIE-500EH等离子刻蚀机
RIE-500EH 是一种新型的低成本、高性能、大面积等离子刻蚀系统,手动装载晶圆片,应用于多片晶圆刻蚀、金属刻蚀、残胶去除及表面清洗工艺,可满足中小型晶圆厂、大学实验室、初创公司的使用需求。设备采用…
ICP/RIE-200PA等离子去胶机
ICP-RIE-200PA 是一种新型的低成本、高性能、实验性远程射频等离子去胶系统,手动装载晶圆片,应用于单片晶圆光刻胶灰化、残胶去除及表面清洗工艺,可满足小型晶圆厂、大学实验室、初创公司的使用需求…
RIE-200EH等离子刻蚀机
RIE-200EH 是一种新型的低成本、高性能、实验性反应离子刻蚀系统,手动装载晶圆片,应用于单片晶圆刻蚀、残胶去除及表面清洗工艺,可满足小型晶圆厂、大学实验室、初创公司的使用需求。设备采用触摸屏 P…
密封条等离子处理机-C6
>> 设备简介 JYM-C6密封条等离子处理机由射流式大气等离子处理主机、传送机构、速度比例及控制单元组成,主要用于EPDM、TPO橡胶密封条植绒前处理,可提高植绒层粘合力,…
聚甲基丙烯酸甲酯在本世纪四十年代就开始用作隐形眼镜材料。由于PMMA具有折射率高、硬度合适、生物亲和性好等性质,直到今天仍然广为使用。但是,PMMA亲水性不佳,这将导致眼翳长期闭合而引起佩戴者的不适。…
真空等离子清洗机这些等离子体在密闭的真空中产生(10-3到10-9bar)。与常压条件下相比,每个单位体积中的微粒数较少,这样就增加了粒子自由程长度,并相对减少了碰撞过程。因此,等离子体能量削弱的倾向…
等离子体又名电浆,是由带正电的正粒子、负粒子(其中包括正离子、负离子、电子、自由基和各种活性基团等)组成的集合体,其中正电荷和负电荷电量相等故称等离子体,是除固态、液态、气态之外物质存在的第四态—等离…